半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程项目环境
该商家职业的生产半导体技术用高纯氟化氢和六氟化钨,焦化废水氟酸度非常高且含量冗杂。本身治疗生产工艺结果不相对稳定,氟化物直接排放时会超预算。工程项目投入2200万元基本建设专用治疗公共设施,规划治疗的能力500吨/天。
废污水化学物质及来自
废液重点来源于生孩子仪器清理和有机废气治理干洗:
氟阳离子溶度:1500-3500mg/L
含浓盐酸根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等金属制的元素
净化处理技术方法
对于高渗透压特别,适用"结合+层级沉积+膜处置"技术:
污废水 处理搜集池:种类搜集不同于质量浓度污废水 处理
与反应迟钝池:分阶段中,添加氢脱色的钠和氢脱色的钙,掌控不可能pH至7.5-8.
斜管石雕文化沉淀池响应池:加药系统PAC和PAM加强石雕文化沉淀作用
斜管石雕文化平流式沉淀池:高质量固液分离处理
多媒质过滤装置器:除去狗细小颗粒物
反渗操作系统:厚度脱盐和除氟
淤泥高浓烘干系统:离心分离烘干后淤泥清运专业课程处治
网上评估机系统:实时路况监控设备氟铁离子酸度和pH值
后面功能
进行处理控制系统自动运行信息:
入水氟阳离子的平均有机废气浓度:2800mg/L
喷水氟正离子盐浓度:3.2mg/L(最低值)
氟除掉率:99.9%上
水中水回用率:做到65%
体统自己化的情况高,实现了生活污水解决成本费用大幅度降低30%,年利用氟化钙副物品约400吨。