某半导体设备研制工厂因晶圆刷洗繁琐流程引起含氨生产废水，发电量200吨/天。生产废自来水中除氧化还原电位外还具有氟化物和氢化物发生器高价属，补救难易度大。本土排放出标准化想要氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺化学成分及因素 晶圆清晰生活污水（主耍原因）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺废气：含轻微铜、镍等高价属，pH值波动性大 CMP研磨机废水处理工艺：含硅粉末及氯离子 处里工艺技术步奏 选择"物理沉定+膜分离出来+折点氯化"乐队组合加工： 预除理 ：添加CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 反渗透装置体统 ：清理0.01μm上科粒物 反融合浓缩咖啡 ：将氯离子浓缩液至1000mg/L大于 折点氯化 ：精确度高操作氯加药系统量，将氟化物流量转化为N2 化合物调换 ：服务高价属及格 以后视觉效果 挥发酚平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属硫含量不低于的检测限 水工业废水处理率达75% 淤泥行成量变少40%