天津某半导体器件鑫霖环保芯片制作厂，晶圆激光加工全过程中所产生含硅、氟的特殊性污生产废水 ，设置解决大规模1200吨/日。污生产废水 的成分繁琐，含带纳米级级硅顆粒及氢氧化钠，以往解决方式 不易于符合标准。 废渣的成分及从何而来 大部分空气废弃物 ：悬浊液硅（100-500nm孔径）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 收入工艺技术 ：晶圆刻蚀化工化工废水（45%）、CMP物理厂家打磨化工化工废水（40%）、的设备清洗水（15%） 补救制作鑫霖环保图 科学创新用"电学沉淀自己+持种膜溶合"技術途径： 钙盐积累 ：加药氯化钙删去氟亚铁离子（转换CaF2析出） 水解酸化池想法 ：结合水解酸化池剂保证 固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜公款私存微细小粒 反构建体系 ：脱盐率>98%，收集率75% 蒸发器心得 ：浓水段实现目标氟化物零排污 结果是结果 氟化物浓度值：<8mg/L（小于国家的1阶段规则10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水影视资源回收率：70%中用加热塔保湿补水 危险废物回收利用：汽化残余物量较经典工艺设备缩减60%